氣相沉積爐呢是一種真空設備，也就是要在一定真空環(huán)境下進行工作的。氣相沉積爐的主要部分有：真空反應室，抽氣組件，控制面板和水氣電的部分.
氣相沉積爐 而氣相沉積技術是一種快速發(fā)展以及應用廣的表面成膜技術，氣相沉積技術不僅僅可以用來制備各種特殊的力學性能的薄膜涂層，而且還能用來制備各種功能薄膜材料和裝飾薄膜涂層等。 氣相沉積技術可以分為物理氣相沉積（簡稱PVD）和化學氣相沉積（簡稱CVD）。其中化學氣相沉積用的是為廣泛，化學氣相沉積可以通過化學反應的方式，利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源，用這種技術可以在反應器內使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學物質在氣相或氣固界面上經化學反應形成固態(tài)的沉積物。
氣相沉積爐向您介紹就是兩種或者兩種以上的氣態(tài)原料通過導入到一個反應室內,然后他們之間發(fā)生化學反應，從而形成一種新形材料，沉積到基片表面上。而CVD和PVD相比，沉積過程要發(fā)生化學反應，這是一個氣象化學生長的過程。
