硅碳負極包覆設備是用于在硅碳負極材料表面包覆一層功能性材料，以提升其性能的關鍵設備。常見的有化學氣相沉積（CVD）爐、物理法包覆機和回轉焙燒爐等，以下是具體介紹：

CVD 爐：如臨沂東木窯爐設備有限公司研發的硅負極 CVD 爐系統，采用化學氣相沉積原理，在高溫下通過氣相碳源（如甲烷、乙炔）在硅顆粒表面熱解沉積碳層，可制備核殼結構硅碳復合材料。其包覆層均勻、致密，能精準調控厚度，常用于實驗室以及工業化生產，有公斤級、百公斤級等不同規格裝置。

物理法包覆機：以湖南經源的包覆機為代表，針對物理包覆法中基材與包覆材料分散均勻性的問題，提出先將物料充分流化、霧化再進行對撞包覆的原理。其干法包覆機適用于基材與包覆材料均為干粉的場景，流化包覆機適用于基材為干粉、包覆材料為溶液的包覆場景。該設備具有氣力流化包覆均勻、高效節能（較傳統機械式節能 20% 以上）、可惰性氣體保護、多功能集成等優點。

回轉焙燒爐：江蘇龍鑫智能干燥的回轉焙燒爐可用于硅碳負極包覆，其主體呈傾斜的圓筒狀，由耐高溫合金鋼制成，內壁襯有耐火材料。設備通過電機、減速機等驅動窯體旋轉，使物料在動態環境下完成焙燒過程。它配備高精度的氣體流量調節系統和多重密封結構，能精準控制窯內氣氛，確保物料焙燒效果均勻，適用于鋰電池材料等對氣氛要求苛刻的物料焙燒，具有穩定氣氛保障、堅固耐用、智能溫控、高效節能等特點。

氣相沉積包覆回轉爐：設備包括爐管、驅動機構、進氣組件、排氣組件和抽真空組件等。通過旋轉接頭實現靜止氣體管路與旋轉爐管的動態連接，維持爐管內部高氣密性。工作時，先將多孔碳送入爐體，用惰性氣體清洗后升溫，再送入硅烷氣體，硅烷裂解生成硅粉沉積在多孔碳上，從而得到硅碳負極材料。